理科学機器（真空装置、高温・低温実験装置）の設計・製造・販売

		特　　　　　徴 半導体デバイスをプロービングし、温度変化に よる特性を計測する装置です。 冷却に液体窒素を使用しており、８０Ｋから５００Ｋ まで広範囲な温度制御が可能です。 冷却した状態でサンプル交換可能なロードロックを 採用しております。 既存のグローブボックスから大気にふれることなく プロービングシステムへサンプルをマウントする事 が出来ます。 弊社では様々な使用目的に合った設計を行って おります。詳細についてはお問い合わせ下さい。
	仕　様 　　　　最低到達温度　　８０Ｋ以下 　　　　冷却方式　　液体窒素伝導冷却方式 　　　　温度コントロール範囲　　８０Ｋ以下〜５００Ｋ 　　　　温度コントロール精度　設定温度に対して±0.1Ｋ程度 　　　　冷却時間　　８０Ｋまで約３０分 　　　　サンプル交換方式　　ロードロック方式 　　　　信号取出用コネクター　BNC、SMA、V、K、トライアクシャル等 付属品 　　　　温度コントローラー・温度センサー・デジタルカメラ 　　　　液晶モニター・光源ユニット 　　　　　　　　　（本装置には別途、高真空排気装置が必要です。）